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名称 機関 メーカー 共用範囲
DELTA80 T3/VP SPEC-KU
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
京都大学
ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
KRC-150CBU
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
USC-2000ST
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
京都大学
ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
学内学外とも共用
KD-150CBU
レジスト現像装置 (Photoresist Developer)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
KSC-150CBU
ウエハスピン洗浄装置 (Wafer Spin Cleaner )
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
ST050
超微細インクジェット描画装置 (Super Fine Inkjet Printer)
京都大学
(株)SIJテクノロジ (SIJTechnology, Inc.)
学内学外とも共用
KD(EB)-150CBU
有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
F7000S-KYT01
大面積超高速電子ビーム描画装置 (Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography)
京都大学
(株)アドバンテスト (ADVANTEST CORPORATION)
学内学外とも共用
BEAMER Full Package
近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System)
京都大学
GenISys(株) (GenISys Inc.)
学内学外とも共用
SCRD401
超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)
京都大学
(株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
学内学外とも共用
KLO-200SV1
高圧ジェットリフトオフ装置 (High Pressure Jet Lift-off System)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
MUM-0001
移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
京都大学
(株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
学内学外とも共用
PEM-800
両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner)
京都大学
ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.)
学内学外とも共用
EB-1100
多元スパッタ装置(仕様A) (RF Magnetron Multi-Sputter Type-A)
京都大学
キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION)
学内学外とも共用
EB-1100
多元スパッタ装置(仕様B) (RF Magnetron Multi-Sputter Type-B)
京都大学
キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION)
学内学外とも共用
EB-1200
電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)
京都大学
キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION)
学内学外とも共用
MPX-CVD
プラズマCVD装置 (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System)
京都大学
住友精密工業(株) (Sumitomo Precision Products CO., LTD.)
学内学外とも共用
MT-8X28-A
熱酸化炉 (Thermal Oxidation Furnace)
京都大学
光洋サーモシステム(株) (Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
学内学外とも共用
NLD-570
磁気中性線放電ドライエッチング装置 (Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher)
京都大学
(株)アルバック (ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
RIE-10NR-KF
ドライエッチング装置 (Capacitive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher)
京都大学
サムコ(株) (Samco Inc.)
学内学外とも共用
EIS-1200
電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置 (Electron Cyclotron Resonance Ion Shower )
京都大学
(株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
学内学外とも共用
MLT-SLE-Ox
シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム (Vapor HF Release Etcher)
京都大学
住友精密工業(株) (Sumitomo Precision Products CO., LTD.)
学内学外とも共用
Xetch X3B
シリコン犠牲層ドライエッチングシステム (Vapor XeF2 Release Etcher )
京都大学
住友精密工業(株) (Xactix, Inc.SPTS Technologies Ltd.
学内学外とも共用
CrF-65
赤外フェムト秒レーザ加工装置 (Femtosecond Cr:Forsterite Laser System)
京都大学
AVESTA PROJECT社 (AVESTA PROJECT LTD.)
学内学外とも共用
LAEX-1000
レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System)
京都大学
AOV(株) (AOV Co., ltd.)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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