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名称 機関 メーカー 共用範囲
自作
グラフェン・カーボンナノチューブ合成装置 (Chemical Vapor Deposition System for Graphene and Carbon Nanotubes Growth)
名古屋工業大学
産学官金連携機構
自作 (Home-made)
学内学外とも共用
特注仕様
レーザーアブレーション成膜装置
名古屋工業大学
産学官金連携機構
パスカル株式会社 他
学内のみ
特注仕様
真空蒸着装置
名古屋工業大学
産学官金連携機構
株式会社アルバック 他
学内のみ
-
STM搭載RHEED装置
名古屋工業大学
産学官金連携機構
-
学内のみ
-
RHEED/LEED装置
名古屋工業大学
産学官金連携機構
-
学内のみ
RT-70V/RG-7C
抵抗率/シート抵抗測定器
名古屋工業大学
産学官金連携機構
ナプソン株式会社
学内のみ
RPD-PCS4/LC
反応性プラズマ蒸着(RPD)装置
豊田工業大学
住友重機械工業
学内学外とも共用
CFS-4ES
スパッタ(金属、絶縁体)蒸着装置 (Sputtering vapor depositing equipment)
豊田工業大学
芝浦エレテック (Shibaura eletec Corporatoin)
学内学外とも共用
BC2925(特注装置)
多機能薄膜作製装置 (Sputtering vapor depositing / Molecular vapor epitaxy equipment)
豊田工業大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
Fiji F200
原子層堆積装置 (Atomic layer deposition:ALD)
豊田工業大学
Ultratech/Cambridge Nano Tech (Ultratech/Cambridge Nano Tech)
学内学外とも共用
MX-1204
マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment)
豊田工業大学
大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
学内学外とも共用
MA6
マスクアライナ装置 (Mask aligner)
豊田工業大学
ズース・マイクロテック (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
VPA-100改造
レジスト処理(アッシング)装置 (Asher)
豊田工業大学
VICインターナショナル (VIC international)
学内学外とも共用
特注
洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)
豊田工業大学
東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
学内学外とも共用
縦型:MD-100P 横型:4001PSI
シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))
豊田工業大学
縦型:ディー・エス・アイ テクノロジー 横型:光洋サーモシステム (縦型:DSITechnology Co.LTD 横型:Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
学内学外とも共用
RIE-10NR
Reactive Ion Etching 装置(非Boschプロセス) (Reactive ion etching equipment (Non-Bosch))
豊田工業大学
サムコ (Samco Inc.)
学内学外とも共用
Multiplex-ASE-SRE-SE
Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス) (Reactive ion etching equipment (Bosch))
豊田工業大学
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products CO.,LTD.)
学内学外とも共用
IM-4-1
イオンミリング装置 (Ion milling)
豊田工業大学
日立ハイテクフィールディング (Hitachi High-Tech Fielding Corporation)
学内学外とも共用
ADM-6DBV
ダイシング装置 (Dicing equipment)
豊田工業大学
岡本工作機械製作所 (okamoto machine tool works,LTD)
学内学外とも共用
CABL-AP50S/RD
電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment)
豊田工業大学
クレステック
学内学外とも共用
ELS-F125HS
高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography)
京都大学
(株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
学内学外とも共用
NSR-2205i11D
露光装置(ステッパー) (i-line Stepper)
京都大学
(株)ニコン (NIKON CORPORATION)
学内学外とも共用
DWL2000
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
京都大学
ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
学内学外とも共用
D-light DL-1000GS/KCH
高速マスクレス露光装置 (High Speed Maskless Laser Lithography )
京都大学
(株)ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
学内学外とも共用
MA-10
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
京都大学
(株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
学内学外とも共用
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〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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