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名称 機関 メーカー 共用範囲
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クリーンルーム付帯設備一式 (Equipments for clean room)
東京工業大学
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学内学外とも共用
JBX-8100
電子ビーム露光装置?(Electron beam lithograph system)
東京工業大学
日本電子 (JEOL)
学内学外とも共用
PD-220
プラズマCVD装置 (TEOS-CVD)
早稲田大学
サムコ (samco)
学内学外とも共用
特注品
イオンビームスパッタ装置 (Ion Beam Sputter)
早稲田大学
伯東株式会社 (Hakuto Co., Ltd.)
学内学外とも共用
EVC-1501
電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system )
早稲田大学
キヤノンアネルバ株式会社 (CANON ANELVA CORPORATION)
学内学外とも共用
EBX-6D
電子ビーム蒸着装置?(Electron Beam Vaper Deposition system )
早稲田大学
株式会社アルバック (ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
SUNALE R-150
原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition Systems)
早稲田大学
PICOSUN JAPAN株式会社 (Picosun Japan Co. Ltd.)
学内学外とも共用
特注品
精密めっき装置群+ドラフト群 (plating system)
早稲田大学
特注品 (Custom-made products)
学内学外とも共用
PR500
プラズマアッシャー (Plasma Asher)
早稲田大学
ヤマト科学株式会社 (Yamato Scientific Co., Ltd.)
学内学外とも共用
RIE-101iPH
ICP-RIE装置 (Inductively Coupled Plasma reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
RIE-10NR
CCP-RIE装置 (Capacitive Coupled Plasma reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
RIE-400iPB
Deep-RIE装置 (deep reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
MA6
紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)
早稲田大学
ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
学内学外とも共用
ELS-7500
電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)
早稲田大学
株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
学内学外とも共用
MLA150
レーザー直接描画装置 (Advanced Maskless Aligner )
早稲田大学
ハイデルベルグ・ジャパン株式会社 (Heidelberger Druckmaschinen AG)
学内学外とも共用
プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A
高耐圧デバイス測定装置+ 高耐圧プローバ (high votage semiconductor device analyzer)
早稲田大学
プローバ:長瀬産業株式会 (特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A (NAGASE & CO., LTD.)
学内学外とも共用
プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1500A LCRメータ4284A
高性能半導体デバイス アナライザ+プローバ (semiconductor device analyzer)
早稲田大学
キーサイト・テクノロジー株式会社 (Keysight Technologies, Inc.)
学内学外とも共用
DAD321
ダイシングソー (dicing saw)
早稲田大学
株式会社ディスコ (DISCO Corporation)
学内学外とも共用
特注品
データコンバートシステム (data converter)
早稲田大学
有限会社君塚製作所 (KSS Internet)
学内学外とも共用
DSO X-3054T N9322C ZM2371
電気計測装置群(オシロスコープ、スペクトルアナライザー、LCRメーター、等)?(Electrical measuring device group)
早稲田大学
キーサイト 株式会社エヌエフ回路設計ブロック (Keysight Technologies, Inc. NF CORPORATION)
学内学外とも共用
クリーンルーム微細加工装置群 (clean room facility)
北陸先端科学技術大学院大学
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学内学外とも共用
JBX6300FS
電子線露光装置
東海国立大学機構・名古屋大学
日本電子
学内学外とも共用
MA-6
両面露光用マスクアライナ
東海国立大学機構・名古屋大学
Suss MicroTec AG
学内学外とも共用
UFL-Hybrid
フェムト秒レーザー加工分析システム
東海国立大学機構・名古屋大学
輝創
学内学外とも共用
DC110
スプレーコーター
東海国立大学機構・名古屋大学
サンメイ
学内学外とも共用
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電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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