多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 表面分析 > XPS |
| 製造元 | アルバックファイ? (ULVAC-PHI, Inc. ) |
| 型番 | PHI 5000 VersaProbe |
| 設備名称 | 多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy) |
| 装置スペック | □ 主な特長 ・ 走査型マイクロフォーカスＸ線源による微小領域分析（最小分析領域10μm） ・ ＳＸＩ(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定 ・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和 ・ 5軸（X、Y、Z、Tilt、Rotation）モータ駆動による多点分析 □ 主な仕様 ・ 最小ビーム径：10μｍ以下 ・ 最高エネルギー分解能：0.5eV以下(Ag3d 5/2) ・ 最大感度：1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき) ・ 到達圧力：6.7×10-8Pa以下 |
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